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高真空电子束蒸发镀膜机 TEMD500


一、产品概述

1、适用:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备。

2、产品特点/用途

►设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;

►适用于实验室制备金属单质膜、有机膜,也可用于生产线前期工艺试验等;

►适用于制备光学薄膜、导电薄膜、铁电薄膜等。

 

二、技术参数

型号TEMD500
真空腔室结构立式圆柱形侧开门结构,后置抽气系统
真空腔室尺寸Φ500×H650mm
加热温度室温~300℃
旋转基片台平板型Φ200mm
膜厚不均匀性≤±5.0%
考夫曼离子源可选
蒸发源电子枪8KW,6穴坩埚 国产进口可选,配3-3组电阻蒸发
控制方式PLC+触摸屏人机界面半自动控制系统
占地面积长×宽 L2500×W1600mm
总功率≥17KW