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适合在大面积玻璃、亚克力板、PC 表面沉积纳米级金属膜（金、银、铜、铝、铬等）、半导体膜（ITO、AZO 等），介质膜（氧 化钛、氧化铬、氧化钨）等，广泛应用在光伏、光电、触摸屏、半导体、平板电极及建筑装饰玻璃等行业。
采用磁控溅射方式，沉积速率快，膜层均匀致密，光亮度好，在大面积上的镀膜不均匀性≤ ±5%，特别适合有功能性要求的膜层制备及控制；例：镀膜导电膜层，电阻值均匀可控，可以控制为稳定电阻，也可以控制为渐变电阻。加上自主开发全自动控制系统可实现一键化操作；保证产品镀膜性能连续稳定；设备采用模块化设计，可根据生产要求增加镀膜模块及其拓展模块，设备易拆卸，维护保养。