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PVD大面积磁控镀膜设备JCP7500
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设备名称：PVD大面积磁控镀膜设备
设备型号：JCP7500
镀膜方式：磁控溅射
真空腔室结构：SUS304L方箱式
工艺室尺寸：工艺室1尺寸L1700×W200mm×H800mm
工艺室2尺寸L1700×W200mm×H800mm
工艺室3尺寸L1700×W200mm×H800mm
极限真空：优于 5.0x10-5Pa
基片台尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片温度：常温
溅射靶：2个射频电源与2个中频电源
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积：15000mmx5000mm
供电总功率：≥ 20kW 三相五线制
设备型号：JCP7500
镀膜方式：磁控溅射
真空腔室结构：SUS304L方箱式
工艺室尺寸：工艺室1尺寸L1700×W200mm×H800mm
工艺室2尺寸L1700×W200mm×H800mm
工艺室3尺寸L1700×W200mm×H800mm
极限真空：优于 5.0x10-5Pa
基片台尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片温度：常温
溅射靶：2个射频电源与2个中频电源
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积：15000mmx5000mm
供电总功率：≥ 20kW 三相五线制
产品详情视频展示
1. 大面积，复合型，批量制备，洁净真空不同功能复合涂层制备，可获得更高电池转换效率；
2. 广泛应用于钙钛矿空穴传输层及金属背电极等膜层的制备；
3. 技术先进、设计优化，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；