高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD500

设备型号：TEMD500
镀膜方式：E 型电子枪
真空腔室结构：立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统
真空腔室尺寸：Φ500mm×H600mm
加热温度：室温～ 300℃
基片台尺寸：平板型 Φ200mm
膜厚不均匀性：≤ ±5.0%
考夫曼离子源：可选
蒸发源：电子枪 10KW，６穴坩埚，国产／进口（可选）， 配２套电阻蒸发
控制方式：PLC/PC（可选）
占地面积：L2500mm×W1600mm
总功率：≥ 17kW
适用范围 ：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备