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电阻蒸发镀膜设备ZHD400

设备型号:ZHD400
镀膜方式:多源蒸发镀膜
真空腔室结构:立式方形前开门结构
真空腔室尺寸:L400mm×W440mm×H450mm
加热温度:室温~ 300℃
基片台尺寸:120mm×120mm
膜厚不均匀性:≤ ±5.0%
蒸发源:2-3 组金属源 /2-3 组有机源
控制方式:PLC + 触摸屏控制
占地面积:主机 L1710mm×W850mm×H1850mm
总功率:≥ 8kW
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大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备


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1. 设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;

2. 设备配备多组蒸发源,兼容有机蒸发与无机蒸发 , 多源共蒸获得复合膜。设计专业,功能强大,性能稳定;

3. 适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜,也可用于生产线前期工艺试验等。