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热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450

设备名称:热丝 CVD 金刚石膜沉积设备
设备型号:HF450
真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷
真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm
真空系统:复合分子泵高真空系统
基片台尺寸:Φ100mm
衬底温度:600 ~ 1100℃
电源:专用热丝电源 400A, 恒流或恒功率模式
气路控制:4 路气体流量控制
控制方式:PLC 触摸屏控制
占地面积:主机 L1200mm×W1060mm×H1900mm
总功率:≥ 20kW
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用于生长毫米级金刚石厚膜、纳米晶金刚石涂层或微米晶金刚石涂层、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等,在切削刀具、模具、 丝锥、BDD 水处理电极等表面沉积金刚石薄膜。


产品优特点.jpg


热丝化学气相沉积金刚石技术,已广泛应用于国内多家用生产金刚石刀具的生产线上。全自动化控制及设备工艺、技术稳定, 适合高端纳米金刚石涂层应用,为航空制造业,精密模具及拉丝模具,BDD 电极等广泛应用 。该设备已生长大尺寸片状多晶金刚石厚膜,填补了国内空白,并获得了非常可观的经济效益。


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