设备名称:钙钛矿大面积蒸发设备
设备型号:ZDF3200(单片/多片)
镀膜方式:线源蒸发
真空腔室结构:卧式方箱结构
真空腔室尺寸:L810mm×W700mm×H670mm(镀膜室)
极限真空:优于5.0x10-⁵Pa
基片台尺寸:330mm×420mm
基片温度:80℃以下
膜厚不均匀性:≤±5.0%(330mmx420mm范围内)
蒸发源:高低温线性蒸发源
膜厚监控系统:国产或进口多探头(可选)
控制方式:PLC + 触摸屏控制
占地面积:L3200mm×W2000mm×H1800mm
总功率:≥40KW