电阻蒸发镀膜设备ZHDS500

设备型号：ZHDS500
镀膜方式：金属 + 有机蒸发
真空腔室结构：SUS304 方箱式，配有前、后门
真空腔室尺寸：L500mmxW500mmxH650mm
加热温度：室温-300℃（选配）
基片台尺寸：抽屉式:220mmx220mm可旋转、升降、水冷
膜厚不均匀性：≤±5.0%（220mmx220mm范围内）
蒸发源：金属/有机4-6组
晶振膜厚监控仪：国产或进口（可选）
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积：L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套箱 )
总功率：≥12kW 三相五线制